Bitte benutzen Sie diese Referenz, um auf diese Ressource zu verweisen: doi:10.22028/D291-24173
Titel: Geração de máscaras em escala nano e micrométrica por litografia eletrônica
Sonstige Titel: Mask generation of nano and micrometric scale by electron litography
Verfasser: Silva, Marcelo A. P.
Nastaushev, Y.
Basmaji, P.
Rossi, J. C.
Aegerter, Michel A.
Sprache: Sonstige
Erscheinungsjahr: 1994
Quelle: Anais / 38° Congresso Brasileiro de Cerâmica; 2° Encontro de Mineradores e Consumidores : [18 a 21 de junho de 1994, Blumenau, SC] / Associação Brasileira de Cerâmica. - Vol. 1. - São Paulo, SP : Associação Brasileira de Cerâmica, 1994, S. 144-148
SWD-Schlagwörter: Elektronenstrahllithographie
Elektronenstrahl
Polymerfilm
Ätzen
Substrat <Chemie>
Substrat <Mikroelektronik>
DDC-Sachgruppe: 500 Naturwissenschaften
Dokumentart : InProceedings (Aufsatz / Paper einer Konferenz etc.)
Kurzfassung: -
The electron beam lithography has been used to generate masks at nano and micrometric scale using polymeric films deposited on a substrate. The film is degraded by the electron beam at the desired regions and developed in a suitable solution. The result is a polymeric mask which can be used to generate on the substrate a region with the same geometric shape using metallic deposition or chemical etching. The polymeric film is then removed leaving the desired surface structure on the substrate. In this work we used the electronic beam of a Scanning Electron Microscope ZEISS DSM 960 to obtain a mask consisting of a matrix of spots with submicrometric period of 300 nm on GaAs surfaces and to optimize the experimental parameters for its realization.
Link zu diesem Datensatz: urn:nbn:de:bsz:291-scidok-23580
hdl:20.500.11880/24229
http://dx.doi.org/10.22028/D291-24173
SciDok-Publikation: 4-Sep-2009
Fakultät: Sonstige Einrichtungen
Fachrichtung: SE - INM Leibniz-Institut für Neue Materialien
Fakultät / Institution:INM
SE - Sonstige Einrichtungen

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