Please use this identifier to cite or link to this item: doi:10.22028/D291-24124
Title: Preparação de sílica amorfa monolitica e deposição de filmes de TiO2 pelo método sol-gel
Author(s): Dos Santos, Dayse Iara
Mohallem, Nelcy Della Santina
Aegerter, Michel A.
Language: (Other)
Year of Publication: 1986
OPUS Source: Anais / 7° Congresso Brasileiro de Engenharia e Ciencia dos Materiais : Florianópolis, SC ; 10 a 12 Dezembro de 1986 / Berend Snoeijer. - [s.l.], 1986, S. 443-449
SWD key words: Sol-Gel-Verfahren
Siliciumdioxid
DDC notations: 500 Science
Publikation type: Conference Paper
Abstract: O método sol-gel foi usado para obter sílica vítrea pura e depositar filmes finos de TiO2 sobre substratos de vidros pela técnica "dip-coating';. Descrevemos os processos e algumas características físicas dos produtos obtidos.
Link to this record: urn:nbn:de:bsz:291-scidok-22691
hdl:20.500.11880/24180
http://dx.doi.org/10.22028/D291-24124
Date of registration: 31-Jul-2009
Faculty: SE - Sonstige Einrichtungen
Department: SE - INM Leibniz-Institut für Neue Materialien
Collections:INM
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