Bitte benutzen Sie diese Referenz, um auf diese Ressource zu verweisen: doi:10.22028/D291-24124
Titel: Preparação de sílica amorfa monolitica e deposição de filmes de TiO2 pelo método sol-gel
Verfasser: Dos Santos, Dayse Iara
Mohallem, Nelcy Della Santina
Aegerter, Michel A.
Sprache: Sonstige
Erscheinungsjahr: 1986
Quelle: Anais / 7° Congresso Brasileiro de Engenharia e Ciencia dos Materiais : Florianópolis, SC ; 10 a 12 Dezembro de 1986 / Berend Snoeijer. - [s.l.], 1986, S. 443-449
SWD-Schlagwörter: Sol-Gel-Verfahren
Siliciumdioxid
DDC-Sachgruppe: 500 Naturwissenschaften
Dokumentart : InProceedings (Aufsatz / Paper einer Konferenz etc.)
Kurzfassung: O método sol-gel foi usado para obter sílica vítrea pura e depositar filmes finos de TiO2 sobre substratos de vidros pela técnica "dip-coating';. Descrevemos os processos e algumas características físicas dos produtos obtidos.
Link zu diesem Datensatz: urn:nbn:de:bsz:291-scidok-22691
hdl:20.500.11880/24180
http://dx.doi.org/10.22028/D291-24124
SciDok-Publikation: 31-Jul-2009
Fakultät: Sonstige Einrichtungen
Fachrichtung: SE - INM Leibniz-Institut für Neue Materialien
Fakultät / Institution:INM
SE - Sonstige Einrichtungen

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