Bitte benutzen Sie diese Referenz, um auf diese Ressource zu verweisen: doi:10.22028/D291-24110
Titel: Determinação do perfil de tensão em filmes finos por microelipsometria
Sonstige Titel: Stress profile determination of thin films by microellipsometry
Verfasser: De Albuquerque Barros Filho, D.
Aegerter, Michel A.
Sprache: Sonstige
Erscheinungsjahr: 1993
Quelle: Anais / 37° Congresso Brasileiro de Cerâmica : Curitiba ; 22 a 25 de majo de 1993 / Associação Brasileira de Cerâmica. - Vol. 2. - São Paulo, SP : Associação Brasileira de Cerâmica, 1993, S. 860-867
SWD-Schlagwörter: Dünne Schicht
Photoelastischer Modulator
Kalibrieren <Messtechnik>
DDC-Sachgruppe: 500 Naturwissenschaften
Dokumentart : InProceedings (Aufsatz / Paper einer Konferenz etc.)
Kurzfassung: -
An optical system was developed to determine the stress profile of transparent thin films by measuring the phase difference between two electromagnetic waves produced by a photoelastic modulator. The system analysis is done by the Mueller matrix of each of its optical components. The calibration and stability of the system are also analyzed. The equipment measures retardation in the range of 1-1500 Å with a spatial resolution of 30 µm.
Link zu diesem Datensatz: urn:nbn:de:bsz:291-scidok-23344
hdl:20.500.11880/24166
http://dx.doi.org/10.22028/D291-24110
SciDok-Publikation: 22-Jul-2009
Fakultät: Sonstige Einrichtungen
Fachrichtung: SE - INM Leibniz-Institut für Neue Materialien
Fakultät / Institution:INM
SE - Sonstige Einrichtungen

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