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doi:10.22028/D291-37222
Titel: | Siliconoid Expansion by a Single Germanium Atom through Isolated Intermediates |
VerfasserIn: | Poitiers, Nadine E. Huch, Volker Morgenstern, Bernd Zimmer, Michael Scheschkewitz, David |
Sprache: | Englisch |
Titel: | Angewandte Chemie : International Edition |
Bandnummer: | 61 |
Heft: | 30 |
Verlag/Plattform: | Wiley |
Erscheinungsjahr: | 2022 |
Freie Schlagwörter: | Anions Germanium Low-Valent Species Silicon Siliconoids |
DDC-Sachgruppe: | 500 Naturwissenschaften |
Dokumenttyp: | Journalartikel / Zeitschriftenartikel |
Abstract: | The growth of (semi-)metal clusters is pivotal for nucleation processes in gaseous and condensed phases. We now report the isolation of intermediates during the expansion of a stable unsaturated silicon cluster (siliconoid) by a single germanium atom through a sequence of substitution, rearrangement and reduction. The reaction of ligato-lithiated hexasilabenzpolarene LiSi6Tip5 (1Li⋅(thf)2, Tip=2,4,6-triisopropylphenyl) with GeCl2⋅NHC (NHC=1,3-diisopropyl-4,5-dimethylimidazol-2-ylidene) initially yields the product with exohedral germanium(II) functionality, which then inserts into an Si−Si bond of the Si6 scaffold. The concomitant transfer of the chloro functionality from germanium to an adjacent silicon preserves the electron-precise nature of the formed endohedral germylene. Full incorporation of the germanium heteroatom to the Si6Ge cluster core is finally achieved either by reduction under loss of the coordinating NHC or directly by reaction of 1Li⋅(thf)2 with GeCl2⋅1,4-dioxane. |
DOI der Erstveröffentlichung: | 10.1002/anie.202205399 |
URL der Erstveröffentlichung: | https://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/anie.202205399 |
Link zu diesem Datensatz: | urn:nbn:de:bsz:291--ds-372222 hdl:20.500.11880/33750 http://dx.doi.org/10.22028/D291-37222 |
ISSN: | 1521-3773 1433-7851 |
Datum des Eintrags: | 15-Sep-2022 |
Bezeichnung des in Beziehung stehenden Objekts: | Supporting Information German version: Angewandte Chemie (Volume 134, Issue 30, July 25, 2022) |
In Beziehung stehendes Objekt: | https://onlinelibrary.wiley.com/action/downloadSupplement?doi=10.1002%2Fanie.202205399&file=anie202205399-sup-0001-misc_information.pdf https://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/ange.202205399 |
Fakultät: | NT - Naturwissenschaftlich- Technische Fakultät |
Fachrichtung: | NT - Chemie |
Professur: | NT - Prof. Dr. Guido Kickelbick NT - Prof. Dr. David Scheschkewitz |
Sammlung: | SciDok - Der Wissenschaftsserver der Universität des Saarlandes |
Dateien zu diesem Datensatz:
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Angew Chem Int Ed - 2022 - Poitiers - Siliconoid Expansion by a Single Germanium Atom through Isolated Intermediates.pdf | 1,39 MB | Adobe PDF | Öffnen/Anzeigen |
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