Bitte benutzen Sie diese Referenz, um auf diese Ressource zu verweisen: doi:10.22028/D291-23831
Titel: A simple model for stress voiding in passivated thin film conductors
Verfasser: Lloyd, J. R.
Arzt, Eduard
Sprache: Englisch
Erscheinungsjahr: 1992
Quelle: Materials reliability in microelectronics II : symposium held April 27 - May 1, 1992, San Francisco, California, U.S.A. / ed.: C. V. Thompson ... - Pittsburgh, Pa. : Materials Research Society, 1992. - (Materials Research Society symposium proceedings ; 265), S. 45-50
SWD-Schlagwörter: Beanspruchung
Modell
Konduktor
DDC-Sachgruppe: 620 Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau
Dokumentart : InProceedings (Aufsatz / Paper einer Konferenz etc.)
Kurzfassung: A model is proposed for stress voiding in passivated thin film conductors. The rate limiting step is argued to be the formation of vacancies at dislocation jogs which then diffuse to void sites.
Link zu diesem Datensatz: urn:nbn:de:bsz:291-scidok-17869
hdl:20.500.11880/23887
http://dx.doi.org/10.22028/D291-23831
ISBN der Druckausgabe: 1-558-99160-3
SciDok-Publikation: 3-Dez-2008
Fakultät: Sonstige Einrichtungen
Fachrichtung: SE - INM Leibniz-Institut für Neue Materialien
Fakultät / Institution:INM
SE - Sonstige Einrichtungen

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