Bitte benutzen Sie diese Referenz, um auf diese Ressource zu verweisen: doi:10.22028/D291-23806
Titel: Investigation of the stresses in continuous thin films and patterned lines by x-ray diffraction
Verfasser: Kuschke, Wolf-Michael
Arzt, Eduard
Sprache: Englisch
Erscheinungsjahr: 1994
Quelle: Applied physics letters. - 64. 1994, 9, S. 1097-1099
SWD-Schlagwörter: Röntgenstrahlung
Werkstoffprüfung
DDC-Sachgruppe: 620 Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau
Dokumentart : Journalartikel
Kurzfassung: Strains and stresses in aluminum thin films and patterned lines were measured using x-ray diffraction. Measurements were performed on pure aluminum and on ion-implanted aluminum, as annealed and six months after an annealing treatment. The results suggest that stresses in passivated lines, starting from an unequitriaxial state of stress, show the tendency to relax in the direction of an equitriaxial state of stress, depending on the ratio of grain size and linewidth or film thickness. The relaxation is particularly rapid in ion-implanted aluminum lines, in contradiction to the expected strengthening effect. Possible implications for electromigration resistance are discussed.
Link zu diesem Datensatz: urn:nbn:de:bsz:291-scidok-17479
hdl:20.500.11880/23862
http://dx.doi.org/10.22028/D291-23806
SciDok-Publikation: 14-Nov-2008
Fakultät: Sonstige Einrichtungen
Fachrichtung: SE - INM Leibniz-Institut für Neue Materialien
Fakultät / Institution:INM
SE - Sonstige Einrichtungen

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